ハフニウムプレート工場直販

基本情報

製品説明

【ハフニウムプレート】のご紹介
私たちはプロデュースを専門としています圧延シートとしてのハフニウムさまざまな厚さとサイズがあります。 ほとんどのシートは、コーティングおよび薄膜の化学蒸着 (CVD) および物理蒸着 (PVD) プロセス (熱蒸着および電子ビーム (E ビーム) 蒸着、低温有機蒸着、原子層蒸着 (ALD) など) で使用するために鋳造インゴットから製造されます。 ）、燃料電池や太陽エネルギーなどの特定の用途向けの有機金属化学蒸着（MOCVD）。 すべての金属の厚さは 0.04 インチから 0.25 インチの範囲です。 材料は、結晶化、固体状態、および昇華などのその他の超高純度プロセスを使用して製造されます。 American Elements は、商業用途および研究用途、および新しい独自技術向けのカスタム組成物の作成を専門としています。 American Elements はまた、希土類金属やその他の最先端の材料を棒、棒、板の形に鋳造したり、その他の機械加工された形状や、ナノ粒子などの他のプロセスを通じて、溶液や有機金属の形で鋳造したりすることもできます。 また、ハフニウムを棒、粉末、板として製造しています。 他の形状もご要望に応じてご利用いただけます。
[ ハフニウム プレート ] 化学:

[ハフニウムプレート]アプリケーション:

塗装加工業界で広く使用されています

a：建築用ガラス、ガラスを使用した自動車、グラフィックディスプレイ分野。

b:電子・半導体分野。

c:装飾および金型分野。

d:光学コーティング材料

１、電子を放出しやすいので便利です（白熱灯のフィラメントなど）。 X線管の陰極として使用されるほか、高電圧放電管の電極としてタンタルとタングステンまたはモリブデンの合金が使用されます。 X線用の陰極やタングステン線の製造産業としてよく使用されます。

2、純粋なタンタルは、可塑性、容易な加工、高温耐性、耐食性を備えており、原子力産業において重要な材料です。 るつぼの熱中性子捕獲断面は理想的な中性子吸収体であり、原子炉の制御棒や保護装置として使用できます。

3、ハフニウム要素は、最新の intel45 nano プロセッサーにも使用されています。 二酸化シリコン (SiO2) は製造しやすく、トランジスタの性能を継続的に向上させるために厚さが薄くなっているため、プロセッサ メーカーはゲート誘電体の材料として二酸化シリコンを使用してきました。

高硬度の質感

不純物含有量が低い

放熱性の向上

高い引張強度

[ ハフニウムプレート ]